Fueron galardonados con los primeros lugares en el evento fue organizado por Festival Internacional de Expresiones de la Nueva Generación «Proyecto POSH»
Redacción
[dropcap]E[/dropcap]l equipo Archigrafik Estudio de Arquitectura, integrado por los egresados de la Unach, Karen Villatoro, Julio Mina y Aldo Cresencio, y asesorados por el académico de la institución, Manuel Hidalgo, obtuvieron el primer lugar en Primer Concurso Internacional de Arquitectura Aplicada, convocado por el Festival Internacional de Expresiones de la Nueva Generación «Proyecto POSH».
En el acto celebrado en esta ciudad, se dio a conocer que el equipo denominado «Fracciona Arquitectura», conformado por los también ex alumnos de la Unach, Daniela Zavala, Fabián Flores, Saúl Aldehir García y Alexis Palacios, con la representación del docente Antonio Nivón, fue acreedor al segundo premio.
Asimismo, a los egresados de la Unach, Alexis Borges, Víctor López, Gerardo Ramírez, con la representación de Emmanuel Netro quienes participaron en este concurso bajo el nombre de «Simetría Estudio de Arquitectura», les fue concedido por el jurado calificador el tercer lugar de la competencia.
Cabe señalar que los proyectos presentados tienen como objetivo proponer la creación del Centro Internacional de las Artes en esta ciudad, identificando las necesidades de articular varias sedes que conecten a los diferentes barrios y lugares de la ciudad.
El jurado calificador estuvo integrado por los arquitectos, Carlos Patrón Ibarra y Miguel Montor; el presidente de la Comisión de Comercio, Industria y Turismo del Ayuntamiento, Oscar Takeshi López Moreno y Alfredo Gómez Díaz, como representante del Colegio de Arquitectos Chiapanecos.
Es importante destacar que a la convocatoria para la creación del Centro Internacional de las Artes respondieron 24 propuestas de México, Argentina y Guatemala, siendo elegidos tres proyectos de unachenses como el pódium final de este concurso.
